{"id":26172,"date":"2024-10-31T03:00:00","date_gmt":"2024-10-31T03:00:00","guid":{"rendered":"https:\/\/domosistemas.com\/?p=26172"},"modified":"2024-10-31T03:00:00","modified_gmt":"2024-10-31T03:00:00","slug":"la-ustc-desarrolla-una-matriz-de-microled-duv-para-impulsar-la-fotolitografia-sin-mascara","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/domosistemas.com\/?p=26172","title":{"rendered":"La USTC desarrolla una matriz de microLED DUV para impulsar la fotolitograf\u00eda sin m\u00e1scara"},"content":{"rendered":"
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Un equipo de investigaci\u00f3n de la Universidad de Ciencia y Tecnolog\u00eda de China (USTC<\/a>) desarroll\u00f3 una matriz de diodos emisores de luz (microLED) de microescala integrados verticalmente. Posteriormente, esta matriz se aplic\u00f3 por primera vez en un sistema de fotolitograf\u00eda sin m\u00e1scara de ultravioleta profundo (DUV).<\/p>\n

\"Micro-LED.\"
En la imagen se muestra el esquema de un sistema microLED fabricado con dispositivos integrados verticalmente.<\/figcaption><\/figure>\n

La fotolitograf\u00eda juega un papel crucial en la fabricaci\u00f3n de circuitos integrados de chips y es una de las tecnolog\u00edas clave en las industrias de semiconductores y microelectr\u00f3nica. En base a esto, los cient\u00edficos han realizado una amplia investigaci\u00f3n sobre microLED DUV y propusieron un sistema de fotolitograf\u00eda sin m\u00e1scara que utiliza una matriz de microLED DUV como fuente de luz.<\/p>\n

Para ello, dise\u00f1aron y optimizaron sistem\u00e1ticamente la estructura epitaxial, las dimensiones del dispositivo, el perfil de la pared lateral y la forma geom\u00e9trica del microLED DUV. De esta forma, se mejor\u00f3 significativamente su eficiencia energ\u00e9tica, el ancho de banda de modulaci\u00f3n y la multifuncionalidad en la detecci\u00f3n, obtenci\u00f3n de im\u00e1genes y detecci\u00f3n de luz ultravioleta. Sobre esta base, el equipo desarroll\u00f3 con \u00e9xito un sistema de matriz basado en estos microLED DUV.<\/p>\n

Fabricaci\u00f3n de un chip integrado de pantalla DUV<\/h2>\n

En este trabajo, el equipo propuso y fabric\u00f3 un chip integrado de pantalla DUV, aprovechando las ventajas del tama\u00f1o ultrapeque\u00f1o y el brillo ultraalto de los microLED DUV. Propusieron una arquitectura de dispositivo integrado verticalmente tridimensional con una matriz de microLED DUV basada en AlGaN y un fotodetector basado en \u00f3xido de zinc, colocados uno al lado del otro a trav\u00e9s de un sustrato de zafiro transparente.<\/p>\n

En esta arquitectura, los fotones UV emitidos desde la matriz de microLED DUV pueden penetrar el sustrato de zafiro transparente y ser capturados por el fotodetector en la parte posterior del sustrato, lo que permite una transmisi\u00f3n eficiente de la se\u00f1al \u00f3ptica.<\/p>\n

Adem\u00e1s, el equipo desarroll\u00f3 un sistema de luminiscencia autoestabilizante con un control de retroalimentaci\u00f3n de bucle cerrado basado en el dispositivo integrado verticalmente. Este sistema no solo puede monitorizar las fluctuaciones de la intensidad de la luz de salida de la matriz de microLED, sino que tambi\u00e9n proporciona retroalimentaci\u00f3n continua para garantizar una potencia de salida estable.<\/p>\n

Los resultados de la prueba mostraron que el dispositivo con sistema autoestabilizante mantiene una alta intensidad de luz y estabilidad a largo plazo, mientras que la intensidad de la luz del dispositivo sin retroalimentaci\u00f3n disminuy\u00f3 gradualmente con el tiempo.<\/p>\n

Usando el sistema de retroalimentaci\u00f3n, el equipo demostr\u00f3 una matriz de microLED DUV con una alta densidad de p\u00edxeles (564 p\u00edxeles por pulgada) y mostr\u00f3 con \u00e9xito un patr\u00f3n claro en una oblea de silicio despu\u00e9s de la fotolitograf\u00eda DUV sin m\u00e1scara, lo que indica potencial en la tecnolog\u00eda de fotolitograf\u00eda de alta resoluci\u00f3n.<\/p>\n

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